N固溶による高Crステンレス鋼を磁気シールドに用いたNiレス歯科用磁性アタッチメントの開発

　日本で生まれ、日本の最先端技術で進化した閉磁路型の歯科用磁性アタッチメントは、義歯をはじめインプラントの上部構造やエピテーゼなどの固定にも利用されており、国際的な地位を得るに至っている。閉磁路型は、超小型で維持力が高く、磁場の漏洩が少ない特徴を示すが、磁気回路を形成するために磁性ステンレス鋼とNiを含む非磁性ステンレス鋼をクラッド加工で高精度に組み合わせる必要がある。国産のカップヨーク型では、構成材料全体に対するNi含有量は0.3%未満であるが、磁性アタッチメントの国際規格ISO 13017において、0.1%以上のNiを含む場合にはNi含有の申告が義務付けられている。安全性重視の国内外事情を考慮すると、Niを全く含まない閉磁路型の歯科用磁性アタッチメントの開発が切望されているが、国内外を通して未だ開発には至っていない。
　我々の開発したN固溶による歯科用磁性アタッチメントの製造方法は、高Cr磁性ステンレス鋼にNを周囲から固溶させて表面のみを非磁性化し、クラッド加工なしに磁気回路を形成できる利点を持つ。同一の磁性ステンレス鋼のみで構成できるため、耐食性に優れ、製造工程の低減化とNiを全く含まない閉磁路型の歯科用磁性アタッチメントの製造が期待できる。

開発責任者

東北大学大学院歯学研究科

高田　雄京　准教授